正性光刻胶的金属剥离技术

PR1-2000A1 试验操作流程

PR1-2000A1的厚度范围可以做到 1500到3500nm，如下以膜厚2900nm为列；

1，静态滴胶后以1300转/分速度持续40秒。同时必须需要在1秒内达到从0转/分到1300转/分的升速度；

2，前烘：热板120度120秒；

3，冷却至室温；

4，用波长为365，RD6光刻胶价格，406，436的波长曝光，

5，在温度为20-25度，使用RD6浸泡式、喷雾、显影 ；

6，去除光刻胶，可使用CH3COCH3，RR5，RD6光刻胶公司，RR41等。

9，去胶:湿法去胶，用溶剂、用NONG硫酸。负胶，98%H2SO4 H2O2 胶=CO CO2 H2O，正胶：BIN酮，干法去胶（ash）氧气加热去胶O2 胶=CO CO2 H2O，等离子去胶Oxygenplasma ashing，高频电场O2---电离O- O ， O 活性基与胶反应CO2，RD6光刻胶哪家好，CO， H2O， 光刻检验