LH-100电镀工艺能产生延展力及整平力极佳的半光亮镍镀层，镀层不含硫，并且具有柱状结构。镀层适合于作为多层

镍铬镀层的初始镀层。在多层镍配合的铬镀层的工艺流程中，采用LH-100半光亮镍工艺，在所需要的厚度下，所产生

的复合镀层在“涂膏密室耐蚀（CORRODKOTE）试验”和“CASS试验”中，均取得非常好的结果。Ni-100工艺具有连续

的生产能力，无需定期进行纯化处理。Ni-100添加剂及溶液与光亮镍镀液是相容的，所以，在Ni-100及以后的光亮镍

过程中无需水洗。

开缸注意：

开缸应该用适当纯度的原材料，溶解之后，应该用1g/L的活性炭纯化镀液。加光亮剂前必须用电解法清除所有的金属

杂质。

工作液含氧杂萘邻酮及其分解产物，在转移到LH-100之前，必须彻底而有效地进行纯化，否则不能达到LH-100工艺全

面的效果。有时候，半光亮镍镀液的转移能够直接加入，即使这样，彻底纯化镀液可获得更佳的效果。

因为很难清除含硫光剂，所以，不建议把光亮镍溶液转移到LH-100。

添加剂的消耗量与溶液的通电量、带出量、电流密度、搅拌程度以及溶液中的杂质的多少有关，也与被镀零件的镀

层要求有关。在一般情况下LH-100A主要为带出损耗，只在开缸和大处理后才需添加。平时可通过定期的赫尔槽试验来

控制其含量。LH-100B的基本消耗量为：100-150ml/1000Ah