简介：
美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造，是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。公司始终致力于微观表面“三维”检测技术和设备的研发及推广，历经近十年努力，已为30多个国家提供NanoMap系列三维表面形貌测量系统。
NanoMap1000WLI光学三维形貌仪在0.1nm 到 10mm 的垂直扫描范围内提供了非接触式高速高精度三维表面测量工能，纵向分辨率可达0.01nm。所有测量都是非破坏性和快速的，样件无须专门处理，在高速扫描状态下测量范围可以到10mm。具有最高的自动化水平，友好的用户界面，以及业内最好的SPIP分析软件系统。众多先进技术的集成、经过长期实用验证的测量技术核心以及适合于各种专业应用需要的软件功能，使 NanoMap 成为世界上最先进的光学干涉测量设备，可满足MEMS、金属研究、材料科学、半导体、医用器械等众多领域科研和生产工作中对高精度自动化表面测量的需要。
特点：
1.     真正的非接触式三维测量
2.     测量轮廓台阶高度范围从小于1nm到高达10mm
3.     基于白光干涉的高精度定量共焦模式，自动调焦，垂直分辨率高达0.1nm
4.     高速扫描，无须制样，无须真空，金属非金属均可，快速直观，操作方便
5.     先进的综合图象处理软件，致力于采集，分析，统计和可视化数据处理等
 
强大的软件功能：
SPIP提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值, 交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。
 
主要技术参数
物镜倍数: 50x，20x，10x，5x任意可选，最多可同时搭载6枚物镜
垂直分辨率 0.1nm, 0.02nm（高精度模式）
CCD相机像素：1024×1024
扫描范围: 150mm x 150mm