德国Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系统 

科研/生产兼用 

简介： 

PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了

光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常轻松地获得微米尺寸的图形。

 

特点： 

 

· 高效的大面积亚微米-纳米图形化设备

 

· 操作简单、工作稳定，兼容科研及批量生产

 

· 纳米周期性图案解决方案

 

优势：

 

· 大面积图形化设备：适用4、6、8寸衬底

 

· 高曝光效率：非步进式曝光，无拼接，单次全场曝光实现整片图形化

 

· 高精度：光学衍射自成像原理，突破传统曝光精度极限

 

· 非接触式曝光

 

· 设备没有景深限制，曝光过程无需对焦

 

· 双工作模式（UV375机型）：高分辨模式（周期性纳米-微米结构），一般紫外光刻模式（非周期结构）

 

· 设备采用通用的商业光刻胶，根据客户的图形，提供工艺技术支持。

 

 

PhableR 100革新性紫外光刻机 

 

 

 

 

技术指标： 

光源

UV375nm

DUV266nm

DUV193nm

分辨率

125nm

75nm

62nm

周期范围

250-3000nm

150-2500nm

125-2000nm

操作方式

手动装片-自动曝光

参数设置

触摸屏

基片尺寸

最大4、6、8英寸（尺寸向下兼容）

PhableR 100 晶圆级光子学结构的曝光工具