高纯铬

名 称：铬

符 号：Cr

原子量：51.9961

熔 点：1907℃

沸 点：2671℃

密 度：7.19g/cm3

高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有耐磨、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点，可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。

我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉，并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶，具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大特点。

高纯铬 Cr 2N5 3N5 靶材 根据要求定制

高纯铬 Cr 3N5 4N 粉末 -200目

高纯铬 Cr 3N5 4N 片状 不规则片状

高纯铬 Cr 3N5颗粒 3-5mm

我公司可提供铬合金如铝铬合金，钴铬钨合金等。还可以提供氧化铬粉末，蒸发膜料及靶材合金及化合物

铬铝合金 AlCr 3N 靶材 颗粒

铝铬钇合金 AlCrY 3N 靶材

钴铬钨合金 CoCrW 3N 靶材

氧化铬 Cr2O3 4N 靶材 颗粒 粉末

高纯硅，单晶硅

名 称：硅

符 号：Si

原子量：28.09

熔 点：1414℃

沸 点：2355℃

密 度：2.33g/cm3

硅是具有灰色金属光泽的固体，属脆性材料，可分为单晶硅，多晶硅和非晶硅。是应用最广泛的半导体材料，高纯钼靶材 厂家供应 采购，也是电子工业和太阳能发电工业的基础材料。

高纯硅靶

高纯硅颗粒

高纯硅粉

高纯硅片

硅的化合物主要用于镀膜领域，我公司可提供一氧化硅，二氧化硅，碳化硅。氮化硅等

高纯铝，超高纯铝的优点：

1，不纯物元素含量极低

2，高纯钼靶材 钼靶 钼片 钼粉，导电性能好，光反射性能好

3，延展性，高纯钼靶材 钼靶材，耐腐蚀性能优良

4，放（fang）射性元素含量低Th，Ult;5ppm

我们主要是通过控制晶粒的生长形态的偏析法提纯工艺，用于高纯铝，超高纯铝的提纯。并通过先进的加工工艺，为您提供靶材，颗粒，丝，片等多种形态的产品。名称符号纯度状态规格高纯铝

高纯铝 Al 5N 5N5 靶材 根据要求定制

高纯铝 Al 2N7-3N 粉末 1um-40目

高纯铝 Al 5N 5N5 6N 棒状 φ3*3mm 6*6mm 可定制

高纯铝 Al 5N 5N5 丝状 φ0.1-5mm

高纯铝 Al 5N 5N5片状 0.03-10mm

我们可提供高纯氧化铝，高纯钼，氮化铝等化合物材料：

光学镀膜材料：氧化铝颗粒，氮化铝颗粒

溅射靶材：氧化铝靶材，氮化铝靶材

另外我公司可以供各种粉末冶金制备的铝合金靶材。钛铝合金，铝硅合金，铝铬钇合金 铝硅铜合金等

高纯钼靶材 钼靶 钼片 钼粉-中诺新材(在线咨询)-高纯钼由中诺新材（北京）科技有限公司提供。“蒸发镀膜材料,高纯有色金属,高纯金属材料,金属材料”就选中诺新材（北京）科技有限公司（www.znxc.com），公司位于：北京市海淀区上地东路25号3层8单元319，多年来，中诺新材坚持为客户提供好的服务，联系人：赵艳。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。中诺新材期待成为您的长期合作伙伴！同时本公司（www.2.znxc.com.cn）还是从事高纯钯靶材，高纯钯，高纯钯颗粒的厂家，欢迎来电咨询。