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化学镀镍特点

迄今为止，化学镀镍的发展已有50多年的历史。经过半个多世纪的研究开发，化学镀镍已进入发展成熟期，其现状可概括为：技术成熟、性能稳定、功能多样、用途广泛。

用化学镀镍沉积的镀层，有一些不同于电沉积层的特性。

①以次磷酸钠为还原剂时，由于有磷析出，发生磷与镍的共沉积，镀无电解镍公司，所以化学镀镍层是磷呈弥散态的镍磷合金镀层，镀层中磷的质量分数为1%～l5%，控制磷含量得到的镍磷镀层致密、无孔，耐蚀性远优于电镀镍。以硼氢化物或氨基为还原剂时，化学镀镍层是镍硼合金镀层，硼的含量为1%～7%。只有以肼作还原剂得到的镀层才是纯镍层，含镍量可达到99．5%以上。

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化学镀镍层的性能有如下诸多优点：

根据镀层中的含磷量，可以控制镀层为磁性或非磁性。

镀层的磨擦系数低，可以达到无油润滑的状态，润滑性与抗金属磨损性方面也优于电镀。

低磷镀层具有良好的可焊性。

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化学镀镍自身也存在很多缺点：

⑴与电镀镍相比，镀液的组成复杂，某些原材料要求较为苛刻。

⑵化学镀的操作比较麻烦，镀覆中必须不断进行分析补加，调整pH。

⑶化学镀溶液本身是一个热力学不稳定体系，容易发生分解等事故。

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