等离子抛光技术是否能够实现样件表面微观整平，利用离子放电原理，使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成，则微观凸起位置的材料优先去除，表面粗精度降低。一定条件下抛光所能达到的粗糙度值取决于放电所形成的坑痕的深度，坑痕深度越小，粗糙度值越小。对于抛光开始阶段呈现出的粗糙度快速下降趋势，是因为在抛光的前5分钟，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，而凸起的位置电场强度大，因此放电通道更多地选择在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快，随着抛光时间的延长，样件凹凸不平的状态得到改善，放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱，因此粗糙度下降的速度减小。
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
如何提高等离子体的生成、控制和稳定性，以实现更高的抛光效率和质量，以及更低的能耗和成本。如何扩大等离子抛光技术的适用范围，以实现对更多种类、形状、尺寸的工件的抛光，以及对更多领域和行业的应用。如何解决等离子抛光技术的环境和安全问题，如如何减少废液的排放和处理，如何避免电磁干扰和噪音等。如何提高等离子抛光技术的智能化和自动化水平，以实现对抛光过程的实时监测、调节和优化，以及对抛光结果的评估和反馈。如何加强等离子抛光技术的理论和实验研究，以揭示等离子抛光过程中发生的复杂的物理、化学、电化学、热力学等机理，以及对工件表面性能的影响规律。
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