、工作温度：不同的镀膜需要不同的温度，比如镀金色TiN，温度580℃。镀银灰色TiCN温度是450℃。
2、工作时间：由于不同镀膜需要的温度不同，以致不同的镀膜需要不同的时间来控制；
3、材料本身：产地、厚度、规格、内部构成化学元素、表面初始加工的相似度；
4、真空镀膜材料：目前真空镀膜常规材料大致有：碳化钛、氮化钛、碳氮化钛等，可以满足市面常规（普通）的镀膜需要，比较的镀膜材料有氮化钛铝，氮化铬膜等，用于加工比较复杂、的颜色；
5、不同的加工环境、不同的镀钛炉、不同的镀钛技工的处理方式都会对镀钛结果产生不同程度的影响；
6、由于不锈钢表面加工工序的复杂性，每一张板材的每一道工序是不可能控制到一致的，这就直接影响到终成品的表面色泽，这也是目前该行业技术上的一个瓶颈。
在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：
装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。
磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,
以上信息由专业从事处理镀钛电话的金常来于2024/5/14 9:07:21发布
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