印刷晒版的操作步骤及工艺流程
曝光机也是晒版机，只是叫法不同。
晒版的工艺流程为：制备感光版-装版-曝光-显影-检查-修正-烤版-提墨-擦胶
检查修正：将曝光、显影后的PS版存在的质量问题加以修正。
烤版：指在高温环境中对PS版的图文基础进行热处理，目的是增强图文部分的稳定性、耐蚀性和机械强度。
提墨：在版面上涂擦显影墨。提墨具有增强图文部分的亲墨性和便于检查等作用。
擦胶：选用一种化学胶质，涂擦到版面上，从而使印版抗脏、防尘、防氧化。
DI直接成像曝光机
1、技术优势：
所有MIVA 位图影像系统使用的曝光程序，使用率半导体光源系统和高解析度的光学模组，此系统将高清晰度的影像转移至感光基材，根据产品需求解析度可从3000DPI 到128000DPI，光学头在板材上方连续移动曝光，高解析度的线性电机和光学尺可实现的位置控制。曝光：对感光版进行曝光，产生化学反应，从而实现图文从原版到感光版上的复1制。
2、耗电低：
待机时只需消耗350W，曝光时消耗2.5KW，这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。
LDI机
LDI曝光速度的瓶颈因素包括：数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。
以基本的影响因素而言，有三个独立的因子会影响曝光速率：
1、能量密度 2、数据调变的速度 3、机械机构速度
光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光，而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间，高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出，主要来自于系统的光源设计，所以这是能量与时间的关系与解析度无关。2)减少了印制电路板的印制和制造之间转接工作的时间，使得数据一交给工程部门就可以开始制造，原型生产时间的节省(从胶片的lOh减少到激光的3h)是非常重要的。
ldi曝光机焦面下降后会影响曝光能量吗
1、对曝光能量无明显影响；
2、对线路的解析度有很大影响。
3、主要会造成异常有：A、下降后，LDI无法继续曝光出精密的线路，单条变粗，会造成曝光不良；
B、会直接造成产品开短路或者线路变粗或变细（正负片变化相反）
4、通常LDI曝光机生产前，都会量测产品厚度，根据测量数据，调整焦距高低，进行补偿，就是为了改善这个问题。
5、如果你的产品线宽线距都很大，焦距轻微变化一点点，并不会造成很大影响，精密线路就会受到很大影响。
以上信息由专业从事pcb双面制版机的迪盛智能于2024/5/14 9:50:47发布
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